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Silicium kaufen in höchster Reinheit

ChemPUR bietet Silicium in vielfältigen Formen und Reinheiten für Synthese, Materialforschung und Dünnschichttechnik.

Unser Silicium-Sortiment

Silicium in vielen Formen und Reinheiten

Verfügbar als

Physikalische Eigenschaften

Schmelzpunkt

1.410,0 °C

Siedepunkt

2.355,0 °C

Häufig gestellte Fragen

Unsere FAQ geben Ihnen einen schnellen Überblick zu wichtigen Themen rund um unser Sortiment. Bei weiteren Fragen stehen wir Ihnen selbstverständlich auch persönlich zur Verfügung.

Einkauf / Verkauf

Wir beraten Sie gerne individuell

Welche Rolle spielt die Partikelgröße bei Silicium-Pulvern?

Unser Lieferprogramm umfasst bei ChemPUR Siliciumpulver in mehreren definierten Partikelgrößenbereichen, da die Korngröße einen direkten Einfluss auf das Verhalten des Materials in der jeweiligen Anwendung hat. Pulver mit einer Korngröße unter 30 Mikrometer oder unter 160 Mikrometer eignen sich für Sinterverfahren, Beschichtungsanwendungen und die Herstellung keramischer Massen, bei denen eine homogene Verteilung gefragt ist. Amorphes Siliciumpulver in der Siebfraktion -100/+325 mesh mit einer Reinheit von 99,999 % wird dort bevorzugt eingesetzt, wo definierte Korngrößenverteilungen und hohe chemische Reinheit gleichzeitig gefordert sind.

Silicium-Nanopulver mit einem mittleren Partikeldurchmesser unter 100 nm und einer spezifischen Oberfläche von 80 m²/g weist aufgrund des hohen Oberflächen-Volumen-Verhältnisses eine deutlich erhöhte Reaktivität auf, was für Anwendungen in der Batterietechnik oder Katalyse relevant ist. Für Fragen zur geeigneten Partikelgröße berät das Fachteam von ChemPUR direkt.

Warum ist ChemPUR der richtige Ansprechpartner für Silicium?

Reproduzierbare Ergebnisse setzen definierte Materialqualitäten voraus – und einen Lieferanten, der diese zuverlässig bereitstellen kann. ChemPUR ist nach ISO 9001:2015 zertifiziert, was gleichbleibende Qualitätsstandards bei Silicium in allen Reinheitsstufen und Formen sicherstellt. Das Sortiment umfasst Pulver, Nanopulver, Stücke, Granulate, Sputtertargets und Verbindungen wie Carbide, Nitride und Oxide – ein Spektrum, das sich kaum auf einen einzigen Lieferanten reduzieren lässt. Wo Standardprodukte nicht ausreichen, sind kundenspezifische Sonderanfertigungen möglich. Über ein weltweites Händlernetz lassen sich auch Materialien beschaffen, die nicht regulär gelistet sind. Als inhabergeführtes Familienunternehmen arbeitet ChemPUR mit kurzen Entscheidungswegen und direktem Kontakt zu erfahrenen Fachleuten – ohne Call-Center, ohne Umwege. Anfragen werden individuell bearbeitet und fachlich fundiert beantwortet.

Wie unterscheiden sich Silicium(II)-oxid und Silicium(IV)-oxid?

Neben den Standardformen des elementaren Siliciums erhalten Sie bei uns auch Siliciumoxide, die sich in ihrer Zusammensetzung, Stabilität und Anwendung grundlegend unterscheiden. Silicium(IV)-oxid (SiO₂) ist die thermodynamisch stabile und in der Natur weit verbreitete Verbindung – bekannt als Quarz, Quarzglas oder amorphes Kieselgel. Es wird in der Optik, der Halbleitertechnik als Dielektrikum, in der Glasherstellung und als Füllstoff eingesetzt.

Silicium(II)-oxid (SiO) hingegen ist eine metastabile Verbindung, die sich durch Reaktion von SiO₂ mit elementarem Silicium bei hohen Temperaturen bildet. Es wird vorwiegend als Verdampfungsmaterial in der Dünnschichttechnik eingesetzt, etwa zur Abscheidung optischer Schutzschichten. Beide Oxide sind in unterschiedlichen Reinheitsstufen und Formen erhältlich. Für produktspezifische Fragen zu Siliciumoxiden steht das Fachteam von ChemPUR direkt zur Verfügung.

Welches Silicium eignet sich für keramische Werkstoffe?

Die Anforderungen an Reinheit und Form variieren bei keramischen und hochtemperaturbeständigen Werkstoffen besonders stark – Silicium bietet hier als Ausgangselement eine breite Basis. Siliciumcarbid (SiC) und Siliciumnitrid (Si₃N₄) zählen zu den technisch bedeutsamsten Hochleistungskeramiken: Sie zeichnen sich durch hohe Härte, thermische Stabilität und chemische Beständigkeit aus und werden in der Verschleißschutztechnik, im Motorenbau und in der Halbleiterprozesstechnik eingesetzt.

Als Ausgangsmaterial für solche Sinterprozesse kommen Siliciumpulver in definierten Korngrößen zum Einsatz, wobei die Reinheit des Ausgangspulvers die Eigenschaften des Endprodukts maßgeblich beeinflusst. ChemPUR führt sowohl Siliciumpulver als auch entsprechende Verbindungen wie SiC und Si₃N₄ in verschiedenen Spezifikationen. Für Anfragen zu geeigneten Ausgangsmaterialien für keramische Anwendungen steht das Fachteam von ChemPUR persönlich zur Verfügung.

Welche Silicium-Verbindungen sind verfügbar?

Bei ChemPUR erhalten Sie neben elementarem Silicium ein breites Spektrum an Silicium-Verbindungen für Forschung, Entwicklung, Synthese und technische Anwendungen. Dazu zählen unter anderem Siliciumcarbid, Siliciumnitrid, Siliciumborid, Silicium(II)-oxid, Silicium(IV)-oxid, Siliciumsäure sowie Silicium(IV)-acetat. Das Sortiment deckt damit unterschiedliche Verbindungsklassen ab – von oxidischen Materialien über Carbide und Nitride bis hin zu speziellen Precursoren und siliciumhaltigen Ausgangsstoffen. Je nach Anwendung können Sie zwischen verschiedenen Reinheitsstufen, Partikelgrößen und Lieferformen wählen.

Einen besonders breiten Bereich nehmen Siliciumoxide ein. Sie sind unter anderem als Pulver, Stücke, Granulate und Nanopulver erhältlich. Je nach Produkt stehen hochreine Qualitäten bis 99,9997 % zur Verfügung. Auch Siliciumcarbid und Siliciumnitrid sind in mehreren Spezifikationen verfügbar, einschließlich Nanoqualitäten für Anwendungen mit besonderen Anforderungen an Oberfläche und Partikelstruktur. Welche Verbindung für Ihre Anwendung geeignet ist, hängt von der gewünschten chemischen Zusammensetzung, Reinheit, Körnung und Weiterverarbeitung ab. Gerne unterstützt Sie unser Fachteam bei der Auswahl der passenden Silicium-Verbindung.

Welche Formen bietet ChemPUR an?

ChemPUR bietet Silicium in verschiedenen physikalischen Formen an, damit Sie das Material passend zu Ihrem Prozess auswählen können. Für pulverbasierte Anwendungen stehen Silicium-Pulver in unterschiedlichen Korngrößen zur Verfügung, darunter Qualitäten unter 30 µm, unter 160 µm sowie amorphes Pulver in definierter Mesh-Fraktion. Für Anwendungen mit besonders feiner Partikelstruktur ist Silicium auch als Nanopulver mit einer durchschnittlichen Partikelgröße von unter 100 nm erhältlich. Wenn eine gröbere und besser handhabbare Form benötigt wird, können Silicium-Stücke oder hochreine Granulate eingesetzt werden.

Für technische Aufbauten und materialwissenschaftliche Untersuchungen umfasst das Sortiment außerdem Folien, Stäbe und Discs. In der Dünnschichttechnik stehen Silicium-Sputtering-Targets in verschiedenen Stärken zur Verfügung. Damit lässt sich die Produktform gezielt nach Partikelgröße, Geometrie, Reinheit und Weiterverarbeitung auswählen. Gerne unterstützt Sie unser Fachteam bei der Auswahl der geeigneten Silicium-Form für Ihre Anwendung.

In welchen Reinheiten ist Silicium erhältlich?

ChemPUR bietet Silicium in einem breiten Reinheitsspektrum von 98,5+ % bis 99,9999 % an. Damit können Sie die Qualität passend zu Ihrer Anwendung auswählen – von präparativen und technischen Prozessen bis zu besonders anspruchsvollen Forschungs- und Entwicklungsprojekten. Für pulverbasierte Anwendungen stehen beispielsweise Silicium-Pulver unter 30 µm oder unter 160 µm mit 98,5+ % zur Verfügung. Wenn höhere Reinheiten benötigt werden, ist amorphes Silicium-Pulver in der Fraktion -100/+325 mesh mit 99,999 % erhältlich.

Silicium-Stücke werden je nach Abmessung in Reinheiten von 99,9 %, 99,99 % und 99,999 % angeboten. Für besonders hohe Anforderungen stehen außerdem Silicium-Granulate mit 99,9999 %, Silicium-Folien und -Stäbe mit 99,999 % sowie Sputtering Targets mit 99,999 % zur Verfügung. Welche Reinheit geeignet ist, hängt davon ab, wie empfindlich Ihr Prozess gegenüber Verunreinigungen ist und welche Produktform Sie benötigen. Gerne unterstützt Sie unser Fachteam bei der Auswahl der passenden Silicium-Qualität.

Silicium kaufen in höchster Reinheit

Silicium in vielen Formen und Reinheiten

Silicon Nanopowder APS <100 nm/ 99+%/ SSA 80 m2/g - spherical, yellow or brown powder partially passionated

Silicon Nanopowder APS <100 nm/ 99+%/ SSA 80 m2/g - spherical, yellow or brown powder partially passionated

Silicon Nanopowder APS <100 nm/ 99+%/ SSA 80 m2/g - spherical, yellow or brown powder partially passionated

Silicon Nanopowder APS <100 nm/ 99+%/ SSA 80 m2/g - spherical, yellow or brown powder partially passionated

Silicon Powder < 30 micron/ 98.5+%

Silicon Powder < 30 micron/ 98.5+%

Silicon Powder -100, +325 mesh, amorphous/ 99.999%

Silicon Powder -100, +325 mesh, amorphous/ 99.999%

Silicon Powder -100, +325 mesh, amorphous/ 99.999%

Silicon Powder < 160 micron/ 98.5+%

Silicon Powder < 160 micron/ 98.5+%

Silicon Pieces < 6 mm/ 99.9%

Silicon Pieces < 6 mm/ 99.9%

Silicon Pieces < 6 mm/ 99.99%

Silicon Pieces < 6 mm/ 99.99%

Silicon Pieces < 10 mm/ 99.99%

Silicon Pieces < 10 mm/ 99.99%

Silicon Pieces, polycrystalline/ 99.999%

Silicon Pieces, polycrystalline/ 99.999%

Silicon Granules 3-6 mm/ 99.9999%

Silicon Granules 3-6 mm/ 99.9999%

Silicon Foil 0.5 mm/ 99.999%/ (ca. 2.91 g/50 x 50 mm)

Silicon Foil 1 mm/ 99.999%/ (ca. 5.83 g/50 x 50 mm)

Silicon Rod Dia 1 mm/ 99.999%/ (ca. 1.83 g/m

Silicon Rod Dia 1.5 mm/ 99.999%/ (ca. 4.12 g/m)

Silicon Rod Dia 3 mm/ 99.999%/ (ca. 16.5 g/m)

Silicon Rod Dia 5 mm/ 99.999%/ (ca. 45.7 g/m)

Silicon Rod Dia 6 mm/ 99.999%/ (ca. 65.9 g/m)

Silicon Disc 0.625 x 125 mm/ 99.9999% (price is same for similar inch sizes)

Silicon Sputtering Target 3.2 mm/ 99.999% (price is same for similar inch sizes)

Silicon Sputtering Target 3.2 mm/ 99.999% (price is same for similar inch sizes)

Silicon Sputtering Target 3.2 mm/ 99.999% (price is same for similar inch sizes)

Silicon Sputtering Target 3.2 mm/ 99.999% (price is same for similar inch sizes)

Silicon Sputtering Target 6.3 mm/ 99.999% (price is same for similar inch sizes)

Silicon Sputtering Target 6.3 mm/ 99.999% (price is same for similar inch sizes)

Silicon Sputtering Target 6.3 mm/ 99.999% (price is same for similar inch sizes)

Silicon Sputtering Target 6.3 mm/ 99.999% (price is same for similar inch sizes)

Ammonium hexafluorosilicate/ 98%/ (NH4)2SiF6/ F.W. 178.14/ m.p. dec.

Silicon(IV) carbide Nanopowder (beta)/ 99%/ APS 50-60 nm/ SSA >90 m2/g – spherical, greyish powder

Silicon(IV) carbide Nanopowder (beta)/ 99%/ APS 50-60 nm/ SSA >90 m2/g – spherical, greyish powder

Silicon(IV) carbide Nanopowder (beta)/ 99%/ APS 50-60 nm/ SSA >90 m2/g – spherical, greyish powder

Silicon(IV) carbide Nanopowder (beta)/ 99%/ APS 50-60 nm/ SSA >90 m2/g – spherical, greyish powder

Silicon(IV) carbide Nanopowder (beta)/ 99%/ APS 60 nm/ SSA 30 m2/g – spherical, grey powder

Silicon(IV) carbide Nanopowder (beta)/ 99%/ APS 60 nm/ SSA 30 m2/g – spherical, grey powder

Silicon(IV) nitride Nanopowder (amorphous)/ 99% (EVE/EUD)/ APS 20 nm/ SSA 115 m2/g – spherical, white powder

Silicon(IV) nitride Nanopowder (amorphous)/ 99% (EVE/EUD)/ APS 20 nm/ SSA 115 m2/g – spherical, white powder

Silicon(IV) nitride Nanopowder (amorphous)/ 99% (EVE/EUD)/ APS 20 nm/ SSA 115 m2/g – spherical, white powder

Silicon(IV) nitride Nanopowder (amorphous)/ 99% (EVE/EUD)/ APS 20 nm/ SSA 50 m2/g – spherical, white powder

Silicon(IV) nitride Nanopowder (amorphous)/ 99% (EVE/EUD)/ APS 20 nm/ SSA 50 m2/g – spherical, white powder

Silicon(IV) nitride Nanopowder (amorphous)/ 99% (EVE/EUD)/ APS 20 nm/ SSA 50 m2/g – spherical, white powder

Silicon(IV) nitride Nanopowder (amorphous)/ 99% (EVE/EUD)/ APS 20 nm/ SSA 50 m2/g – spherical, white powder

Silicon(IV) nitride Nanopowder (amorphous)/ 99% (EVE/EUD)/ APS 15-20 nm/ SSA 103-123 m2/g – spherical, white or yellow

Silicon(IV) nitride Nanopowder (amorphous)/ 99% (EVE/EUD)/ APS 15-20 nm/ SSA 103-123 m2/g – spherical, white or yellow

Silicon(IV) nitride Nanopowder (amorphous)/ 99% (EVE/EUD)/ APS 15-20 nm/ SSA 103-123 m2/g – spherical, white or yellow

Silicon(IV) nitride Nanopowder (amorphous)/ 99% (EVE/EUD)/ APS 15-20 nm/ SSA 103-123 m2/g – spherical, white or yellow

Silicon(IV) nitride Nanopowder (amorphous)/ 99% (EVE/EUD)/ APS 15-20 nm/ SSA 103-123 m2/g – spherical, white or yellow

Silicon(IV) oxide + amino group (6:1) Nanopowder / 99.8%/ APS 10-20 nm/ SSA 90-130 m2/g – white powder

Silicon(IV) oxide + amino group (6:1) Nanopowder / 99.8%/ APS 10-20 nm/ SSA 90-130 m2/g – white powder

Silicon(IV) oxide + amino group (6:1) Nanopowder / 99.8%/ APS 10-20 nm/ SSA 90-130 m2/g – white powder

Silicon(IV) oxide + amino group (6:1) Nanopowder / 99.8%/ APS 10-20 nm/ SSA 90-130 m2/g – white powder

Silicon(IV) oxide + amino group (6:1) Nanopowder / 99.8%/ APS 10-20 nm/ SSA 90-130 m2/g – white powder

Silicon(IV) oxide Nanopowder/ 99+%/ APS 10-20 nm/ SSA 600 m2/g – white powder

Silicon(IV) oxide Nanopowder/ 99+%/ APS 10-20 nm/ SSA 600 m2/g – white powder

Silicon(IV) oxide Nanopowder/ 99+%/ APS 10-20 nm/ SSA 600 m2/g – white powder

Silicon(IV) oxide Nanopowder/ 99+%/ APS 10-20 nm/ SSA 600 m2/g – white powder

Silicon oxide Nanopowder (40 wt% in water)/ APS 20 nm / Viscosity 13 cps

Silicon oxide Nanopowder (40 wt% in water)/ APS 20 nm / Viscosity 13 cps

Silicon oxide Nanopowder (40 wt% in water)/ APS 20 nm / Viscosity 13 cps

25 pc TLC Plates 20 x 20 cm, Aluminium backed, Silica Gel 60A F254

Silic acid/ 99+%/ SiO2 . xH2O/ F.W. 60.08/ powder heavy/ Loss on ignition 10-20%

Silic acid/ 99+%/ SiO2 . xH2O/ F.W. 60.08/ powder heavy/ Loss on ignition 10-20%

Silicon boride/ 98% (EVE/EUD)/ SiB6/ F.W. 92.95/ powder/ Contains traces of SiB4 and Si

Silicon(II) oxide/ 99.9%/ SiO/ F.W. 44.09/ powder-325 mesh

Silicon(II) oxide/ 99.9%/ SiO/ F.W. 44.09/ pieces 3-6 mm

Silicon(II) oxide/ 99.9%/ SiO/ F.W. 44.09/ powder-325 mesh

Silicon(II) oxide/ 99.9%/ SiO/ F.W. 44.09/ pieces 3-6 mm

Silicon(II) oxide/ 99.99%/ SiO/ F.W. 44.09/ pieces 3-6 mm

Silicon(II) oxide/ 99.99%/ SiO/ F.W. 44.09/ pieces 3-6 mm